Widely tunable work function TaN/Ru stacking layer on HfLaO gate dielectric

  • X. P. Wang
  • , M. F. Li
  • , H. Y. Yu
  • , J. J. Yang
  • , J. D. Chen
  • , C. X. Zhu
  • , A. Y. Du
  • , W. Y. Loh
  • , S. Biesemans
  • , Albert Chin
  • , G. Q. Lo
  • , D. L. Kwong

    研究成果: Chapter › 同行評審

    指紋

    深入研究「Widely tunable work function TaN/Ru stacking layer on HfLaO gate dielectric」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Material Science