VERY THIN NITRIDE/OXIDE COMPOSITE GATE INSULATOR FOR VLSI CMOS.

L. Dori*, J. Sun, M. Arienzo, S. Basavaiah, Y. Taur, D. Zichermann

*此作品的通信作者

研究成果: Conference article同行評審

12 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「VERY THIN NITRIDE/OXIDE COMPOSITE GATE INSULATOR FOR VLSI CMOS.」主題。共同形成了獨特的指紋。

Engineering & Materials Science