Using fluorine-ion implanted a-Si layer to reduce Ni contamination and passivate the defects in NILC poly-Si

Chien Chih Chen*, Yew-Chuhg Wu

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Using fluorine-ion implanted a-Si layer to reduce Ni contamination and passivate the defects in NILC poly-Si」主題。共同形成了獨特的指紋。

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