Universal tunnel mass and charge trapping in SiO2)1-x (Si3N44)x]1-ySiy film

Hiroshi Watanabe*, Daisuke Matsushita, Kouichi Muraoka, Koichi Kato

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

9 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Universal tunnel mass and charge trapping in SiO<sub>2</sub>)<sub>1-x</sub> (Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>4)x]<sub>1-y</sub>Si<sub>y</sub> film」主題。共同形成了獨特的指紋。

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Chemical Compounds