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Two-Step Hot Electron Decay in Ti
1-x
Al
x
N Films
I. Hong Ho, Ching Wen Chang, Shangjr Gwo,
Hyeyoung Ahn
光電工程學系
研究成果
:
Conference contribution
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指紋
指紋
深入研究「Two-Step Hot Electron Decay in Ti
1-x
Al
x
N Films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Hot Electrons
100%
Electron Decay
100%
Ti1-xAlxN
100%
Electron-phonon Interaction
66%
Visible Spectrum
33%
Ultrafast
33%
N-of-1
33%
Ti-rich
33%
Interaction Process
33%
Material Science
Thin Films
100%
Film
100%
Molecular Beam Epitaxy
100%
Hot Electron
100%
Physics
Electron Phonon Interactions
100%
Hot Electron
100%
Thin Films
50%
Molecular Beam Epitaxy
50%
Immunology and Microbiology
Phonon
100%