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Time-Series Forecast-Based Endpoint Thickness Compensation for Thinning of Sapphire Wafer
Yu Kun Lin,
Bing Fei Wu
*
*
此作品的通信作者
電控工程研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Time-Series Forecast-Based Endpoint Thickness Compensation for Thinning of Sapphire Wafer」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Sapphire Wafer
100%
Wafer Thinning
100%
Time Series Forecasting
100%
Thickness Compensation
100%
Thinning Process
66%
Grinder
66%
Online Error Compensation
66%
Contact Time
33%
Compensation Method
33%
Measurement Approach
33%
Performance Prediction
33%
Forecast Model
33%
Time Series Forecasting Model
33%
Grinding Efficiency
33%
Grinding Process
33%
Measurement Module
33%
Hard Brittle Material
33%
Multi-signal
33%
Engineering
Grinding (Machining)
100%
Endpoint
100%
Error Compensation
40%
Thinning Process
40%
Grinding Mill
40%
Prediction Performance
20%
Contact Time
20%
Brittleness
20%