Time-Dependent Dielectric Breakdown of Gate Oxide on 4H-SiC with Different Oxidation and Isolation Processes
Yun Ju Wang, Yi Ting Huang, Bing Yue Tsui*, Chao Hsin Chien
*此作品的通信作者
研究成果: Conference contribution › 同行評審
1
引文
斯高帕斯（Scopus）