Thermal annealing of Pd/InAlAs Schottky contacts for transistor buried-gate technologies

H. F. Chuang*, C. P. Lee, Chia-Ming Tsai, D. C. Liu, J. S. Tsang, J. C. Fan

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

14 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Thermal annealing of Pd/InAlAs Schottky contacts for transistor buried-gate technologies」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Engineering