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影響
The urinary hippuric acid of workers exposed to the low level and multiple organic solvents
M. L. Chen
*
, I. F. Mao
, Y. W. Lo
, M. S. Uang
*
此作品的通信作者
環境與職業衛生研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「The urinary hippuric acid of workers exposed to the low level and multiple organic solvents」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Organic Solvents
100%
Hippuric Acid
100%
Toluene
66%
Exposure Groups
66%
Biological Exposure Index
33%
Toluene Exposure
33%
Taiwan
16%
Workplace
16%
Solvent Exposure
16%
Marker-based
16%
Pharmacology, Toxicology and Pharmaceutical Science
Hippuric Acid
100%
Environmental Marker
33%
Base
16%