The novel improvement of low dielectric constant methylsilsesquioxane by N 2 O plasma treatment
- T. C. Chang*
- , Po-Tsun Liu
- , Y. S. Mor
- , S. M. Sze
- , Y. L. Yang
- , M. S. Feng
- , Fu-Ming Pan
- , B. T. Dai
- , C. Y. Chang
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）