The first Ge nanosheets GAAFET CMOS inverters fabricated by 2D Ge/Si multilayer epitaxy, Ge/Si selective etching

Chun Lin Chu, Guang Li Luo*, Shih Hong Chen, Wei Yuan Chang, Wen Fa Wu, Wen Kuan Yeh

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「The first Ge nanosheets GAAFET CMOS inverters fabricated by 2D Ge/Si multilayer epitaxy, Ge/Si selective etching」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science