跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立陽明交通大學研發優勢分析平台 首頁
English
中文
首頁
人員
單位
研究成果
計畫
獎項
活動
貴重儀器
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
The ellipsometric measurements on SiO2 by intensity ratio technique
Yu Faye Chao
*
, C. S. Wei
, W. C. Lee
, S. C. Lin
,
Tien-Sheng Chao
*
此作品的通信作者
電子物理學系
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「The ellipsometric measurements on SiO2 by intensity ratio technique」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Silica
100%
Polarizer
100%
Intensity Ratio
100%
Ratio Technique
100%
Ellipsometric Measurements
100%
Error Sources
14%
Si Thin Film
14%
Ellipsometric Parameters
14%
First-order Approximation
14%
PSA System
14%
Ellipsometric Technique
14%
Percentage Error
14%
Null Ellipsometry
14%
Mathematics
Null
100%
Approximation Order
100%
Intersects
100%
Chemical Engineering
Ellipsometry
100%
Film
50%
Physics
Polarizers
100%
Thin Films
14%
Ellipsometry
14%
Material Science
Polarizer
100%
Thin Films
14%