Temperature-accelerated dielectric breakdown in ultrathin gate oxides

C. C. Chen*, C. Y. Chang, Chao-Hsin Chien, T. Y. Huang, Horng-Chih Lin, M. S. Liang

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

9 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Temperature-accelerated dielectric breakdown in ultrathin gate oxides」主題。共同形成了獨特的指紋。

Physics & Astronomy