Suppression of interfacial reaction for HfO2 on silicon by pre-CF4 plasma treatment
Chao Sung Lai*, Woei Cherng Wu, Tien-Sheng Chao, Jian Hao Chen, Jer Chyi Wang, Li Lin Tay, Nelson Rowell
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）