Structural and electrical characteristics of low-dielectric constant porous hydrogen silsesquioxane for Cu metallization
J. H. Wang, W. J. Chen, T. C. Chang, Po-Tsun Liu, S. L. Cheng, J. Y. Lin, L. J. Chen*
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
J. H. Wang, W. J. Chen, T. C. Chang, Po-Tsun Liu, S. L. Cheng, J. Y. Lin, L. J. Chen*
研究成果: Article › 同行評審