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Silicon-germanium structure in surrounding-gate strained silicon nanowire field effect transistors
Yi-Ming Li
*
, Jam Wem Lee
, Hung Mu Chou
*
此作品的通信作者
電信工程研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
8
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Silicon-germanium structure in surrounding-gate strained silicon nanowire field effect transistors」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Silicon Nanowire Field-effect Transistor (SNWFET)
100%
Silicon-germanium
100%
Surrounding Gate
100%
Strained Silicon Nanowires
100%
Barrier Height
66%
Electrical Characteristics
33%
Gate Length
33%
Field-effect Transistors
33%
Drain Current
33%
Short Channel Effects
33%
Gate Bias
33%
Threshold Voltage
33%
Leakage Current Characteristics
33%
Transfer Characteristics
33%
Driving Capability
33%
High Electron Mobility
33%
Gate Capacitance
33%
Strained Silicon
33%
Material Science
Silicon
100%
Nanowire
100%
Field Effect Transistor
100%
Germanium
100%
Strained Silicon
100%
Film
25%
Electrical Property
25%
Capacitance
25%
Electron Mobility
25%
Engineering
Field-Effect Transistor
100%
Nanowire
100%
Barrier Height
50%
Gate Length
25%
Current Drain
25%
Gate Bias
25%
Gate Capacitance
25%