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Silicon-germanium structure in surrounding-gate strained silicon nanowire field effect transistors

  • Yi-Ming Li*
  • , Jam Wem Lee
  • , Hung Mu Chou
  • *此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

8 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Silicon-germanium structure in surrounding-gate strained silicon nanowire field effect transistors」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Keyphrases

Material Science

Engineering