SiGe and Si Gate-All-Around FET Fabricated by Selective Etching the Same Epitaxial Layers

Wei Yuan Chang, Guang Li Luo*, Yi Shuo Huang, Chun Lin Chu, Yao Jen Lee, Bo Yuan Chen, Chun Hsiung Lin, Wen Fa Wu, Wen Kuan Yeh

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

8 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「SiGe and Si Gate-All-Around FET Fabricated by Selective Etching the Same Epitaxial Layers」主題。共同形成了獨特的指紋。

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Material Science