Si-containing crystalline carbon nitride derived from microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition

  • L. C. Chen*
  • , D. M. Bhusari
  • , C. Y. Yang
  • , K. H. Chen
  • , T. J. Chuang
  • , Ming-Chang Lin
  • , C. K. Chen
  • , Y. F. Huang
    • *此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

81 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Si-containing crystalline carbon nitride derived from microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Keyphrases

Engineering

Chemistry

Material Science

Immunology and Microbiology

Chemical Engineering