Selected topics on HfO 2 gate dielectrics for future ULSI CMOS devices

  • M. F. Li*
  • , H. Y. Yu
  • , Y. T. Hou
  • , J. F. Kang
  • , X. P. Wang
  • , C. Shen
  • , C. Ren
  • , Y. C. Yeo
  • , C. X. Zhu
  • , D. S.H. Chan
  • , Albert Chin
  • , D. L. Kwong
    • *此作品的通信作者

    研究成果: Paper › 同行評審

    6 引文 斯高帕斯（Scopus）

    指紋

    深入研究「Selected topics on HfO 2 gate dielectrics for future ULSI CMOS devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Material Science

    Immunology and Microbiology