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Rigorous electromagnetic simulation of mask magnification effects on the diffracted light for EUV binary mask

  • Chun Hung Lin*
  • , Hsuen Li Chen
  • , Fu-Hsiang Ko
  • *此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

3 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Rigorous electromagnetic simulation of mask magnification effects on the diffracted light for EUV binary mask」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Keyphrases

Engineering

Material Science