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Reducing Ni residues of metal induced crystallization poly-Si with a simple chemical oxide layer
Ming Hui Lai
*
,
Yew-Chuhg Wu
*
此作品的通信作者
材料科學與工程學系
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Reducing Ni residues of metal induced crystallization poly-Si with a simple chemical oxide layer」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Polysilicon
100%
Crystallization
94%
Leakage currents
93%
Oxides
74%
Metals
55%
Atoms
44%
Annealing
43%
Hot Temperature
20%