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Reactive Sputtering Process Study for Vanadium Oxynitride Films
Nai Yun Chang,
Chuan Li
*
, Jang Hsing Hsieh
*
*
此作品的通信作者
生物醫學工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
3
引文 斯高帕斯（Scopus）
總覽
指紋
指紋
深入研究「Reactive Sputtering Process Study for Vanadium Oxynitride Films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Reactive Sputter Process
100%
Vanadium Oxynitride
100%
Annealing
40%
Oxynitride
40%
Reactive Gas
40%
Oxynitride Thin Film
40%
Scanning Electron Microscope
20%
Low Resistivity
20%
X Ray Diffraction
20%
X-ray Photoelectron Spectroscopy
20%
Oxides
20%
Rapid Thermal Annealing
20%
Magnetron Sputtering
20%
Deposition Conditions
20%
Annealed Films
20%
Optical Transmittance
20%
Mass Flow Rate
20%
Crystalline Phase
20%
Four-point Probe
20%
UV-Vis-NIR
20%
Oxygen Flow Rate
20%
Ar Atmosphere
20%
Vanadium Nitride
20%
Low Supply
20%
Reactive Magnetron Sputtering
20%
Optical Absorbance
20%
Vanadium Target
20%
Appurtenance
20%
Surface Profiler
20%
NIR Spectrometer
20%
Pure Vanadium
20%
Material Science
Vanadium
100%
Oxynitride
100%
Film
85%
Thin Films
28%
Magnetron Sputtering
28%
Electrical Resistivity
14%
X-Ray Diffraction
14%
Oxide Compound
14%
X-Ray Photoelectron Spectroscopy
14%
Annealing
14%
Nitride Compound
14%
Scanning Electron Microscopy
14%
Surface (Surface Science)
14%