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Preferential growth of thin rutile TiO
2
films upon thermal oxidation of sputtered Ti films
Chu Chi Ting,
San-Yuan Chen
*
,
Dean-Mo Liu
*
此作品的通信作者
材料科學與工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
80
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Preferential growth of thin rutile TiO
2
films upon thermal oxidation of sputtered Ti films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Annealing Temperature
25%
Crystal Growth
50%
Crystalline-amorphous
25%
Crystallites
25%
Film Orientation
25%
Free Strain
25%
Fused Silica Substrate
25%
Highly Crystalline
25%
Low-crystalline
25%
Metal Film
25%
Preferential Growth
100%
Preferred Orientation
25%
Randomly Distributed
25%
Rutile
75%
Rutile TiO2
100%
Sputtered Ti
100%
Strain Energy
25%
Surface Free Energy
25%
Thermal Oxidation
100%
Ti Film
100%
Ti Metal
25%
TiO2 Film
100%
Material Science
Annealing
14%
Crystal Growth
28%
Crystallite
14%
Film
100%
Metal Film
14%
Oxidation Reaction
100%
Silicon Dioxide
14%
Surface (Surface Science)
14%
Titanium Dioxide
100%
Chemical Engineering
Film
100%
Free Energy
12%
Fused Silica
12%
Titanium Dioxide
100%