Poly-oxide/poly-Si/SiO2/Si structure for ellipsometry measurement

Tien-Sheng Chao*, C. L. Lee, T. F. Lei, Y. T. Yen

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

2 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Poly-oxide/poly-Si/SiO2/Si structure for ellipsometry measurement」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

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