Plasma-induced charging damage in ultrathin (3 nm) nitrided oxides

C. C. Chen*, Horng-Chih Lin, C. Y. Chang, M. S. Liang, Chao-Hsin Chien, S. K. Hsien, T. Y. Huang

*此作品的通信作者

研究成果: Paper同行評審

3 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Plasma-induced charging damage in ultrathin (3 nm) nitrided oxides」主題。共同形成了獨特的指紋。

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