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國立陽明交通大學研發優勢分析平台 首頁
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Phase and thickness dependence of thermal diffusivity in a-SiC
x
N
y
and a-BC
x
N
y
Sur Chattopadhyay
*
, L. C. Chen, S. C. Chien, S. T. Lin, C. T. Wu, K. H. Chen
*
此作品的通信作者
生醫光電研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
4
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Phase and thickness dependence of thermal diffusivity in a-SiC
x
N
y
and a-BC
x
N
y
」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Thermal diffusivity
94%
Carbon nitride
34%
Silicon
18%
Substrates
16%
Amorphous silicon
16%
X ray photoelectron spectroscopy
14%
Silicon nitride
14%
Boron
13%
Heat resistance
12%
Carbon
9%
Microstructure
8%
Chemical Compounds
Thermal Diffusivity
100%
Liquid Film
34%
Oxalonitrile
25%
Amorphous Silicon
16%
Thermal Resistance
14%
Wave
11%
Boron Atom
10%
X-Ray Photoelectron Spectroscopy
8%
Microstructure
8%
Carbon Atom
5%
Physics & Astronomy
thermal diffusivity
76%
carbon nitrides
31%
thermal resistance
12%
silicon
12%
boron nitrides
12%
traveling waves
11%
silicon nitrides
11%
amorphous silicon
10%
photoelectron spectroscopy
9%
carbon
7%
microstructure
7%
characterization
6%
configurations
6%
x rays
5%