Novel precleaning treatment for selective tungsten chemical vapor deposition

T. C. Chang*, Y. S. Mor, Po-Tsun Liu, S. M. Sze, Y. L. Yang, M. S. Tsai, C. Y. Chang

*此作品的通信作者

研究成果: Conference article › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Novel precleaning treatment for selective tungsten chemical vapor deposition」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Engineering

Pharmacology, Toxicology and Pharmaceutical Science

Chemical Engineering