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Non-destructive Observation of Void Formation Due to Electromigration in Solder Microbump by 3D X-ray
Kai Cheng Shie, Tzu Wen Lin, King-Ning Tu,
Chih Chen
國際半導體產業學院
新世代功能性物質研究中心
智慧半導體奈米系統技術研究中心
材料科學與工程學系
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Non-destructive Observation of Void Formation Due to Electromigration in Solder Microbump by 3D X-ray」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Electromigration
100%
Soldering
100%
Microbump
100%
Void Growth
100%
Non-destructive Observation
100%
3D X-ray
100%
Observational Method
28%
Computed Tomography Images
28%
Viewing Angle
14%
Current Density
14%
C-axis
14%
Failure Analysis
14%
Resistance to Change
14%
Electron Current
14%
Sn Grain Orientation
14%
3D IC Packaging
14%
Daisy Chain
14%
Computed Tomography
14%
Destructive Analysis
14%
EBSD Analysis
14%
Engineering
Electromigration
100%
Void Growth
100%
Cross Section
16%
Failure Analysis
16%
Grain Orientation
16%
Resistance Change
16%
Current Direction
16%
Test Vehicle
16%
Material Science
Tomography
100%
Void Growth
100%
Density
33%
Electron Backscatter Diffraction
33%