Nickel silicide nanocrystals embedded in SiO2 and HfO2 for nonvolatile memory application
F. M. Yang, T. C. Chang*, Po-Tsun Liu, Y. H. Yeh, Y. C. Yu, J. Y. Lin, S. M. Sze, J. C. Lou
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）