Nickel silicide nanocrystals embedded in SiO2 and HfO2 for nonvolatile memory application

F. M. Yang, T. C. Chang*, Po-Tsun Liu, Y. H. Yeh, Y. C. Yu, J. Y. Lin, S. M. Sze, J. C. Lou

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

11 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Nickel silicide nanocrystals embedded in SiO2 and HfO2 for nonvolatile memory application」主題。共同形成了獨特的指紋。

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