MPI/MS detection of SiF and SiF2 radicals produced from the reaction of F2 and NF3 with silicon

  • J. A. Dagata*
  • , D. W. Squire
  • , C. S. Dulcey
  • , D. S.Y. Hsu
  • , Ming-Chang Lin
    • *此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

22 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「MPI/MS detection of SiF and SiF2 radicals produced from the reaction of F2 and NF3 with silicon」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Chemistry

Chemical Engineering