MOSFET DEGRADATION DUE TO STRESSING OF THIN OXIDE.

M. S. Liang*, Y. T. Yeow, C. Chang, Chen-Ming Hu, R. W. Brodersen

*此作品的通信作者

研究成果: Conference article同行評審

10 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「MOSFET DEGRADATION DUE TO STRESSING OF THIN OXIDE.」主題。共同形成了獨特的指紋。