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Molybdenum gate electrode technology for deep sub-micron CMOS generations

  • Pushkar Ranade*
  • , Ronald Lin
  • , Qiang Lu
  • , Yee Chia Yeo
  • , Hideki Takeuchi
  • , Tsu Jae King
  • , Chen-Ming Hu
    • *此作品的通信作者

研究成果: Conference article › 同行評審

10 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Molybdenum gate electrode technology for deep sub-micron CMOS generations」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Keyphrases

Material Science

Engineering

Chemical Engineering