Molybdenum gate electrode technology for deep sub-micron CMOS generations

Pushkar Ranade*, Ronald Lin, Qiang Lu, Yee Chia Yeo, Hideki Takeuchi, Tsu Jae King, Chen-Ming Hu

*此作品的通信作者

研究成果: Conference article › 同行評審

9 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Molybdenum gate electrode technology for deep sub-micron CMOS generations」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Engineering

Chemical Engineering