跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立陽明交通大學研發優勢分析平台 首頁
English
中文
在 國立陽明交通大學研發優勢分析平台 搜尋內容
首頁
人員
單位
研究成果
計畫
獎項
活動
貴重儀器
影響
Mix-and-match lithography technology on 6-in. wafers for nanofabrication
Shyi Long Shy
*
,
Tien-Sheng Chao
, C. H. Chu
, T. F. Lei
, Kazumitsu Nakamura
, Wen An Loong
, C. Y. Chang
*
此作品的通信作者
電子物理學系
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Mix-and-match lithography technology on 6-in. wafers for nanofabrication」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Wafer
100%
Lithography Technology
100%
Device Fabrication
100%
Nanofabrication
100%
Stepper
100%
Mix-and-match
100%
G-line
100%
Electron Beam
50%
High-resolution
50%
Electron Beam Lithography
50%
High-throughput
50%
Nanometer Scale
50%
Pattern-based Approach
50%
Resist Pattern
50%
Lithography System
50%
Device Pattern
50%
Engineering
Lithography
100%
Nanofabrication Process
100%
High Resolution
50%
Nanometre
50%
Beam Lithography
50%
Device Wafer
50%
Patterning Process
50%
Material Science
Lithography
100%
Device Fabrication
66%