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Mitigating DIBL and Short-Channel Effects for III-V FinFETs with Negative-Capacitance Effects
Shih En Huang
, Wei Xiang You
,
Pin Su
*
*
此作品的通信作者
電子研究所
智慧半導體奈米系統技術研究中心
電機工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
10
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Mitigating DIBL and Short-Channel Effects for III-V FinFETs with Negative-Capacitance Effects」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Bias Dependence
33%
Carbon Nanotube Field Effect Transistor (CNTFET)
66%
Drain Bias
33%
Drain Current Model
33%
Fin Field-effect Transistor (FinFET)
33%
Gate Length
33%
High-mobility Channel
33%
III-V Channel
33%
III-V FinFET
100%
InGaAs
66%
InGaAs FinFET
33%
Logic Devices
33%
Negative Capacitance
100%
Paper-based
33%
Potential Profile
33%
Power Scaling
33%
Quantum Confinement
33%
Quantum Source
33%
Short Channel Effects
100%
Source-to-drain Tunneling
33%
Sub-20 Nm
33%
Subthreshold Drain Current
33%
Subthreshold Swing
33%
Supply Voltage
33%
Technology Node
33%
Tunneling Distance
33%
Voltage Power
33%
Engineering
Current Drain
33%
Drain Bias
33%
Gate Length
33%
Indium Gallium Arsenide
100%
Nodes
33%
Quantum Confinement
33%
Quantum Source
33%
Supply Voltage
33%
Tunnel Construction
66%