Low-temperature growth of polycrystalline Ge films on SiO2 substrate by HDPCVD

Ming Jui Yang*, Jiann Shieh, Shih Lu Hsu, Ing Jye Huang, Ching Chich Leu, Shih Wen Shen, Tiao Yuan Huang, Peer Lehnen, Chao-Hsin Chien

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

7 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Low-temperature growth of polycrystalline Ge films on SiO2 substrate by HDPCVD」主題。共同形成了獨特的指紋。

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