Low-leakage electrostatic discharge protection circuit in 65-nm fully-silicided CMOS technology

Chang Tzu Wang*, Ming-Dou Ker, Tien Hao Tang, Kuan Cheng Su

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution › 同行評審

    指紋

    深入研究「Low-leakage electrostatic discharge protection circuit in 65-nm fully-silicided CMOS technology」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Engineering & Materials Science