Low-leakage electrostatic discharge protection circuit in 65-nm fully-silicided CMOS technology

  • Chang Tzu Wang*
  • , Ming-Dou Ker
  • , Tien Hao Tang
  • , Kuan Cheng Su
    • *此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution › 同行評審

    指紋

    深入研究「Low-leakage electrostatic discharge protection circuit in 65-nm fully-silicided CMOS technology」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Engineering