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Low alkaline contamination bottom antireflective coatings for both 193- and 157-nm lithography applications

  • H. L. Chen*
  • , Y. F. Chuang
  • , C. C. Lee
  • , C. I. Hsieh
  • , Fu-Hsiang Ko
  • , L. A. Wang
    • *此作品的通信作者

研究成果: Conference article › 同行評審

指紋

深入研究「Low alkaline contamination bottom antireflective coatings for both 193- and 157-nm lithography applications」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Earth and Planetary Sciences

Keyphrases

Material Science