Layout Optimization and Parasitic Reduction in Sub-60-nm nMOSFETs for Super-350-GHz fMAX

Jyh Chyurn Guo*, Jyun Rong Ou

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

指紋

深入研究「Layout Optimization and Parasitic Reduction in Sub-60-nm nMOSFETs for Super-350-GHz fMAX」主題。共同形成了獨特的指紋。

Chemical Compounds

Engineering & Materials Science