Inversion MOS capacitance extraction for ultra-thin gate oxide using BSIM4

Wei Lee*, Ke Wei Su, Chung Shi Chiang, Sally Liu, Pin Su

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution同行評審

    2 引文 斯高帕斯(Scopus)
    原文English
    主出版物標題2005 IEEE VLSI-TSA - International Symposium on VLSI Technology - VLSI-TSA - TECH, Proceedings of Technical Papers
    頁面62-63
    頁數2
    DOIs
    出版狀態Published - 31 10月 2005
    事件2005 IEEE VLSI-TSA - International Symposium on VLSI Technology - VLSI-TSA-TECH - Hsinchu, 台灣
    持續時間: 25 4月 200527 4月 2005

    出版系列

    名字2005 IEEE VLSI-TSA - International Symposium on VLSI Technology - VLSI-TSA-TECH, Proceedings of Technical Papers

    Conference

    Conference2005 IEEE VLSI-TSA - International Symposium on VLSI Technology - VLSI-TSA-TECH
    國家/地區台灣
    城市Hsinchu
    期間25/04/0527/04/05

    引用此