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影響
Inverse Reticle Optimization with Quantum Annealing and Hybrid Solvers
Po Hsun Fang
, Yan Syun Chen
,
Jhih Sheng Wu
*
,
Peichen Yu
*
*
此作品的通信作者
光電工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
4
引文 斯高帕斯（Scopus）
總覽
指紋
指紋
深入研究「Inverse Reticle Optimization with Quantum Annealing and Hybrid Solvers」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Reticle
100%
Quantum Annealing
100%
Quantum Hybrid
100%
Hybrid Solver
100%
Annealing Time
60%
Steepest Descent
40%
Sample Correlation
40%
Intersample
40%
Annealing
20%
Semiconductor Manufacturing
20%
Time Sampling
20%
Optimization Problem
20%
Low Energy
20%
Breakage
20%
D-Wave
20%
Semiconductor Fabrication
20%
Global Minimum
20%
Steepest Descent Method
20%
Quantum Computing
20%
Pixelation
20%
Microlithography
20%
Minimum Problem
20%
Quantum Chains
20%
Computational Lithography
20%
A Hybrid Approach
20%
Engineering
Annealing Time
100%
Hybrid Approach
33%
Semiconductor Manufacturing
33%
Optimisation Problem
33%
Lithography
33%
Breakage
33%
Objective Function
33%
Semiconductor Fabrication
33%
Steepest Descent Algorithm
33%
Microlithography
33%
Quantum Computation
33%
Chemical Engineering
Lithography
100%
Mathematics
Steepest Descent Algorithm
20%