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Interruption-free growth of 10 μm-thick GaN film prepared on sputtered AlN/PSS template by hydride vapor phase epitaxy
Y. A. Chen,
Cheng-Huang Kuo
*
, J. P. Wu, C. W. Chang
*
此作品的通信作者
照明與能源光電研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
5
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Interruption-free growth of 10 μm-thick GaN film prepared on sputtered AlN/PSS template by hydride vapor phase epitaxy」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Vapor phase epitaxy
100%
Hydrides
71%
Thick films
69%
Crystals
28%
Organic chemicals
21%
Full width at half maximum
20%
Chemical vapor deposition
16%
Coalescence
16%
Etching
15%
Crystalline materials
14%
Transmission electron microscopy
14%
X ray diffraction
13%
Metals
9%
Physics & Astronomy
interruption
67%
vapor phase epitaxy
58%
hydrides
57%
thick films
53%
templates
52%
crystals
13%
coalescing
13%
metalorganic chemical vapor deposition
13%
etching
10%
transmission electron microscopy
9%
diffraction
7%
x rays
6%
Chemical Compounds
Vapor Phase Epitaxy
89%
Hydride
47%
Liquid Film
27%
Coalescence
15%
Etching
12%
Transmission Electron Microscopy
9%
X-Ray Diffraction
7%