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Interfacial reaction between amorphous silicon and palladium thin films
H. T.G. Hentzell
*
, P. A. Psaras, King-Ning Tu
*
此作品的通信作者
國際半導體產業學院
研究成果
:
Article
›
同行評審
4
引文 斯高帕斯(Scopus)
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指紋
指紋
深入研究「Interfacial reaction between amorphous silicon and palladium thin films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Amorphous silicon
100%
Palladium
96%
Surface chemistry
96%
Thin films
69%
Rutherford backscattering spectroscopy
68%
Thick films
44%
Crystallization
39%
Activation energy
38%
Transmission electron microscopy
37%
Annealing
36%
Physics & Astronomy
palladium
78%
thick films
68%
amorphous silicon
67%
backscattering
65%
crystallization
56%
activation energy
53%
transmission electron microscopy
48%
annealing
43%
spectroscopy
38%
thin films
37%
Chemical Compounds
Amorphous Silicon
99%
Surface Chemistry
67%
Palladium
55%
Amorphous Material
50%
Rutherford Backscattering Spectroscopy
46%
Liquid Film
35%
Annealing
28%
Crystallization
25%
Reaction Activation Energy
25%
Transmission Electron Microscopy
24%
Diffusion
22%