Intelligent reticle modification enabled large-area metalens patterning

Chun Yen Chou*, Hsueh Li Liu, Lin Chia Huang, Wilson Guo, Pei-Chen Yu, You Chia Chang, Yao-Wei Huang, Jia Min Shieh

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution同行評審

指紋

深入研究「Intelligent reticle modification enabled large-area metalens patterning」主題。共同形成了獨特的指紋。

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Engineering

Material Science