Integration Design and Process of 3-D Heterogeneous 6T SRAM with Double Layer Transferred Ge/2Si CFET and IGZO Pass Gates for 42% Reduced Cell Size
X. R. Yu*, M. H. Chuang, S. W. Chang, W. H. Chang, T. C. Hong, C. H. Chiang, W. H. Lu, C. Y. Yang, W. J. Chen, J. H. Lin, P. H. Wu, T. C. Sun, S. Kola, Y. S. Yang, Yun Da, P. J. Sung, C. T. Wu, T. C. Cho, G. L. Luo, K. H. Kao
*此作品的通信作者
研究成果: Conference contribution › 同行評審
9
引文
斯高帕斯(Scopus)