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Influence of barrier growth temperature on the properties of InGaN/GaN quantum well
T. C. Wen
*
,
Wei-I Lee
*
此作品的通信作者
電子物理學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
31
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Influence of barrier growth temperature on the properties of InGaN/GaN quantum well」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Band Gap
33%
Blue Shift
33%
Double Crystal X-ray Diffraction
33%
Growth Temperature
100%
Indium Gallium Nitride (InGaN)
100%
InGaN Quantum Wells
100%
MQW Structure
33%
Multiple Quantum Wells
33%
Peak Wavelength
33%
Peak Wavelength Shift
33%
Photoluminescence
66%
Strain Effect
33%
Well Thickness
33%
Well Width
66%
Physics
Blue Shift
50%
Energy Gaps (Solid State)
50%
Multiple Quantum Well
50%
Photoluminescence
100%
Quantum Wells
100%
Single Crystal X-Ray Diffraction
50%
Engineering
Band Gap
33%
Blueshift
33%
Growth Temperature
100%
Quantum Well
100%
Ray Diffraction
33%
Strain Effect
33%