Improvement of low dielectric constant methylsilsesquioxane by boron implantation treatment
T. C. Chang, Y. S. Mor, Po-Tsun Liu, T. M. Tsai, C. W. Chen, S. M. Sze, Y. J. Mei
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）