Improved plasma charging immunity in ultra-thin gate oxide with fluorine and nitrogen implantation
C. C. Chen*, Horng-Chih Lin, C. Y. Chang, C. C. Huang, Chao-Hsin Chien, T. H. Huang, M. S. Liang
*此作品的通信作者
研究成果: Paper › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）