Impacts of high-κ offset spacer on 65-nm node SOI devices

Ming Wen Ma*, Tien-Sheng Chao, Kuo Hsing Kao, Jyun Siang Huang, Tan Fu Lei

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

指紋

深入研究「Impacts of high-κ offset spacer on 65-nm node SOI devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

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