Impact of random interface traps on asymmetric characteristic fluctuation of 16-nm-gate MOSFET devices

Yiming Li*

*此作品的通信作者

研究成果: Chapter › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Impact of random interface traps on asymmetric characteristic fluctuation of 16-nm-gate MOSFET devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Computer Science

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Physics